CVE-2026-70829
WysokieCVSS 7.5Prawdopodobieństwo exploitacji (EPSS)
Niskie ryzykoPercentyl 25 - wyżej niż 25% wszystkich znanych CVE
Streszczenie
Podatność w produkcie Oracle Process Manufacturing Systems z pakietu Oracle E-Business Suite (komponent: Operacje wewnętrzne). Dotyczy wersji 12.2.3-12.2.15. Atakujący z niskimi uprawnieniami może, przy trudnych warunkach, przejąć kontrolę nad systemem, co skutkuje pełną kompromitacją.
Ocena ryzyka
Ryzyko obejmuje całkowite przejęcie systemu produkcyjnego, co może prowadzić do manipulacji danymi i przerw w działaniu.
Rekomendacja
Zastosuj poprawki Oracle dla wersji 12.2.3-12.2.15 oraz monitoruj system pod kątem nietypowej aktywności.
Inne podatności w Oracle Process Manufacturing Systems
Zobacz wszystkie- CVE-2026-70830Wysokie
Podatność w produkcie Oracle Process Manufacturing Systems z pakietu Oracle E-Business Suite (komponent: Operacje wewnętrzne). Dotyczy wersji 12.2.3-12.2.15. Atakujący z niskimi uprawnieniami może przez HTTP uzyskać pełny dostęp do danych oraz je modyfikować, tworzyć lub usuwać.
- CVE-2026-61000Wysokie
Podatność w produkcie Oracle Process Manufacturing Systems (część Oracle E-Business Suite) w wersjach 12.2.3-12.2.15. Niskouprzywilejowany atakujący przez sieć może wykorzystać HTTP do naruszenia poufności i integralności danych, uzyskując nieautoryzowany dostęp do krytycznych danych oraz możliwość ich tworzenia, usuwania lub modyfikacji.
Oryginalny opis (angielski, źródło NVD)
Vulnerability in the Oracle Process Manufacturing Systems product of Oracle E-Business Suite (component: Internal Operations). Supported versions that are affected are 12.2.3-12.2.15. Difficult to exploit vulnerability allows low privileged attacker with network access via HTTP to compromise Oracle Process Manufacturing Systems. Successful attacks of this vulnerability can result in takeover of Oracle Process Manufacturing Systems. CVSS 3.1 Base Score 7.5 (Confidentiality, Integrity and Availability impacts). CVSS Vector: (CVSS:3.1/AV:N/AC:H/PR:L/UI:N/S:U/C:H/I:H/A:H).
Dane podatności pochodzą z NVD (NIST) · CISA KEV · EPSS