Katalog CVE

CVE-2022-41175

Wysokie
Opublikowano: Przetłumaczono: NVD NIST

Streszczenie

Podatność CVE-2022-41175 dotyczy niewłaściwego zarządzania pamięcią w SAP 3D Visual Enterprise Author w wersji 9. Otwierając zmanipulowany plik Enhanced Metafile (.emf, emf.x3d) z nieznanych źródeł, może dojść do zdalnego wykonania kodu poprzez przepełnienie stosu lub ponowne użycie wskaźnika wskazującego na nadpisaną przestrzeń w pamięci.

Ocena ryzyka

Organizacja narażona jest na ryzyko zdalnego wykonania kodu, co może prowadzić do utraty danych, przejęcia kontroli nad systemem lub wprowadzenia złośliwego oprogramowania. W szczególności, atakujący może wykorzystać tę podatność do zdalnego dostępu do wrażliwych informacji.

Rekomendacja

Zaleca się aktualizację SAP 3D Visual Enterprise Author do najnowszej wersji, która zawiera poprawki bezpieczeństwa. Dodatkowo, należy unikać otwierania plików z nieznanych źródeł oraz wdrożyć odpowiednie zabezpieczenia w celu ograniczenia dostępu do aplikacji.

Powiązane podatności

Oryginalny opis (angielski, źródło NVD)

Due to lack of proper memory management, when a victim opens a manipulated Enhanced Metafile (.emf, emf.x3d) file received from untrusted sources in SAP 3D Visual Enterprise Author - version 9, it is possible that a Remote Code Execution can be triggered when payload forces a stack-based overflow or a re-use of dangling pointer which refers to overwritten space in memory.

Dane podatności pochodzą z NVD (NIST) · CISA KEV · EPSS